合作伙伴：甘肅某半導體企業(yè)

儀器類型：電感耦合等離子體質(zhì)譜儀

品牌：安捷倫

型號：ICPMS 7700X

2023年10月10日，甘肅某半導體企業(yè)購買安捷倫電感耦合等離子體質(zhì)譜儀ICPMS7700X，安裝調(diào)試完畢，感謝客戶的支持與認可！

與傳統(tǒng)無機分析技術(shù)相比，電感耦合等離子體質(zhì)譜儀ICP-MS技術(shù)提供了最低的檢出限、最寬的動態(tài)線性范圍、干擾最少、分析精密度高、分析速度快、可進行多元素同時測定以及可提供精確的同位素信息等分析特性。

硅片是信息技術(shù)產(chǎn)業(yè)中半導體制造業(yè)的基礎材料, 硅片在制作使用過程中的金屬雜質(zhì)控制與檢測是關乎產(chǎn)品性能的重要手段與指標。在制造工藝生產(chǎn)過程中硅片表面極其少量金屬污染的存在都有可能導致器件功能失效或可靠性變差, 有統(tǒng)計表明, 在電力電子元器件和光伏產(chǎn)品制造業(yè)中50%產(chǎn)品良率的降低都是由于污染造成的,因此在制造生產(chǎn)過程中對硅片表面雜質(zhì)污染的控制極為重要，檢測規(guī)范非常嚴格。
 

隨著ICP-MS (電感耦合等離子體質(zhì)譜分析法)技術(shù)的不斷革新,以吸其杰出的超痕量級檢測性能和多元素同時快速分析能力, 現(xiàn)已成為硅片表面污染測試監(jiān)控中必不可少的手段。硅片表面污染測試既是硅片制造過程中必不可少的監(jiān)控手段,也是提升后道器件性能的重要方法與依據(jù)。電感耦合等離子體質(zhì)譜分析法通過不斷革新,已具備出的超痕量級檢測性能和多元素同時快速分析能力,已被成熟使用多年,亟需制定相關產(chǎn)品標準。

國家標準《硅片表面金屬元素含量的測定電感耦合等離子體質(zhì)譜法》GB/T 39145-2020

本標準規(guī)定了電感耦合等離子體質(zhì)譜法（ICP-MS）測定硅片表面金屬元素含量的方法。
本標準適用于硅單晶拋光片和硅外延片表面痕量金屬鈉、鎂、鋁、鉀、鈣、鉻、錳、鐵、鈷、鎳、銅、鋅元素含量的測定，測定范圍為108 cm²～1013cm²。本標準同時也適用于硅退火片、硅擴散片等無圖形硅片表面痕量金屬元素含量的測定。